电子行业超纯水系统是利用现在*的电子技术进行提炼纯水系统，它根据原水的水质情况，对原水进行脱盐处理，由于电子行业对于水中的离子含量要求非常高，所以我们公司的超纯水系统也是选择*的反渗透技术，搭配业内的EDI设备，混床技术，使得产生水质可达到18.25MΩ•cm，水质可符合国内外用水标准。

在大规模的集成电路超纯水水质中，优先获得关注的水质指标为：电阻率、TOC、硅、微粒、重金属、溶解氧、碱金属等，这类物质会溶于水中，而在集成电路芯片的制造过程中，使用的水质中所含离子成分越多，则对产品的制造工艺的影响越大，使得产品良率降低。

硅片是现代半导体行业不可或缺的基础材料，而在硅片的生产过程中会有许多的污染物质干扰产品的质量，所以半导体器件的生产硅片需要进行严格的清洗，通过清洗去除掉表面的污染杂质，包括有机物和无机物等，否则微量元素的污染会导致半导体器件失效。

单硅晶体超纯水设备主要作用是用于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的是以原子状态、离子状态、薄膜形式、颗粒形式存在与硅片的表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属铬、铜、铁、金等，严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等，引起严重漏电;颗粒污染源则包括有机胶体纤维、微生物、细

半导体行业超纯水设备使用的是微电脑+触摸屏控制技术，搭配高效的自动化控制系统，有效的保障了设备的稳定性，而且*程度的节约了人力成本和维护成本，水资源的利用率得到了有效的提高，设备运行过程的可靠性高，操作简单易懂。这款设备相较于其它同类型产品，具有更高的性价比，是值得选择的半导体行业超纯水设备