电子行业超纯水系统是利用现在*的电子技术进行提炼纯水系统,它根据原水的水质情况,对原水进行脱盐处理,由于电子行业对于水中的离子含量要求非常高,所以我们公司的超纯水系统也是选择*的反渗透技术,搭配业内的EDI设备,混床技术,使得产生水质可达到18.25MΩ•cm,水质可符合国内外用水标准。
在大规模的集成电路超纯水水质中,优先获得关注的水质指标为:电阻率、TOC、硅、微粒、重金属、溶解氧、碱金属等,这类物质会溶于水中,而在集成电路芯片的制造过程中,使用的水质中所含离子成分越多,则对产品的制造工艺的影响越大,使得产品良率降低。
硅片是现代半导体行业不可或缺的基础材料,而在硅片的生产过程中会有许多的污染物质干扰产品的质量,所以半导体器件的生产硅片需要进行严格的清洗,通过清洗去除掉表面的污染杂质,包括有机物和无机物等,否则微量元素的污染会导致半导体器件失效。
单硅晶体超纯水设备主要作用是用于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质有的是以原子状态、离子状态、薄膜形式、颗粒形式存在与硅片的表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属铬、铜、铁、金等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染源则包括有机胶体纤维、微生物、细
半导体行业超纯水设备使用的是微电脑+触摸屏控制技术,搭配高效的自动化控制系统,有效的保障了设备的稳定性,而且*程度的节约了人力成本和维护成本,水资源的利用率得到了有效的提高,设备运行过程的可靠性高,操作简单易懂。这款设备相较于其它同类型产品,具有更高的性价比,是值得选择的半导体行业超纯水设备
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