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多晶硅反渗透超纯水机_实验室纯水设备

简要描述:在大规模的集成电路超纯水水质中,优先获得关注的水质指标为:电阻率、TOC、硅、微粒、重金属、溶解氧、碱金属等,这类物质会溶于水中,而在集成电路芯片的制造过程中,使用的水质中所含离子成分越多,则对产品的制造工艺的影响越大,使得产品良率降低。

  • 产品型号:SYBJ
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2019-11-25
  • 访  问  量:210

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详细介绍

品牌其他品牌微生物1cfu/ml
颗粒物(>0.1μm)1μm热源/内毒素0.001EU/ml
总有机碳(TOC)20ppb重金属离子0.1
电阻率18.25MΩ·CM仪器种类超纯水仪
价格区间3万-5万纯水水质一级纯水器
产地类别国产应用领域医疗卫生,农业,文体,能源,建材

多晶硅反渗透超纯水机_实验室纯水机。在大规模的集成电路超纯水水质中,优先获得关注的水质指标为:电阻率、TOC、硅、微粒、重金属、溶解氧、碱金属等,这类物质会溶于水中,而在集成电路芯片的制造过程中,使用的水质中所含离子成分越多,则对产品的制造工艺的影响越大,使得产品良率降低。

集成电路的超纯水设备常用于工业半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩膜板的制作以及硅片氧化用的水汽源等。此外真空管等的制作、厚膜和薄膜电路、固态电子器件、印刷电路等也都是需要使用超纯水。随着科技的不断发展,集成电路的集成度与日俱增,对水质的要求也随之增高,从而使得超纯水处理工艺及产品的可持续性、生产的连续性、设备的自动化和简易性都提出了更加严格的要求。

工艺流程:

原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点

原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透 →PH调节→中间水箱→二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

渗源纯水针对于现在的集成电路用超纯水设备采用*的全自动双级反渗透+EDI电除盐+抛光混床处理技术,在前置预处理部分配套使用反渗透处理,能有效的去除水中各种盐分和杂质,紧接着使用EDI电除盐和抛光混床技术,能有效的去除水质的可溶性离子,进一步的提升出水水质,使得出水水质达到用水工艺要求。

设备特点:

1. 采用进口增压泵,噪音低效率高,稳定可靠

2. 全自动电控程序,还可选配触摸屏操作,使用方便。

3. 采用全自动预处理系统,实现无人化操作,减少人工维护成本

4. 采用进口反渗透膜,脱盐率高,使用寿命长,运行成本低廉。

5. 切合当地水质的个性化设计,*满足需求。

6. 在线水质监测控制,实时监测水质变化,保障水质安全。

7. 节省了再生用水及再生污水处理设施,产水率高(可达95%)。

8. 无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施,使用安全可靠,避免工人接触酸碱。

9. 简化安装过程,降低场地占地面积。

应用领域:

1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水。

2、晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制。

3、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。

4、集成电路生产中高纯水清洗硅片。

5、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

6、光电产品、其他高科技精微产品 。

7、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

8、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

 

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